多晶硅，是單質(zhì)硅的一種形態(tài)，是極為重要的優(yōu)良半導體材料。多晶硅可用于半導體工業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、太陽能光伏電池產(chǎn)業(yè)*主要、*基礎的功能性材料，多晶硅生產(chǎn)主要是采用改良西門子法，改良西門子法生產(chǎn)多晶硅的反應器主要采用多晶硅還原爐，該方法是將多晶硅還原爐內(nèi)安裝沉積載體通電發(fā)熱，在多晶硅還原爐內(nèi)將高純度氯硅烷與氫氣的混合氣體加熱到1000℃以上發(fā)生反應生成硅，硅沉積在上述沉積載體上的過程。
在多晶硅生產(chǎn)過程中，還原爐鐘罩表面上會沉積一定厚度的多晶硅副產(chǎn)物、硅粉等，但是，多晶硅生產(chǎn)對還原爐的沉積環(huán)境的潔凈度要求特別關鍵，任何顆粒性雜質(zhì)、物料等物質(zhì)余留在爐內(nèi)，都會對產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。所以，在還原爐運行一個周期結束后，都需要把鐘罩用行車吊到清洗裝置平臺上對鐘罩進行清洗干凈后，在裝硅芯進行下一個周期的化學氣相沉積。
通常，對于多晶硅還原爐鐘罩清洗主要包括清洗和烘干兩個過程，過去以人工清洗為主，不安全，不環(huán)保，清洗的一致性也難以保證，清洗效果差，自動化程度低，效率不高。為此德高潔自主研發(fā)并投入使用了一套自動化高壓水多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)，主要用于西門子法多晶硅還原爐鐘罩(爐筒)內(nèi)壁的全自動清洗和烘干。
其工作原理是以水力自驅(qū)動三維自動旋轉噴頭，形成360°的網(wǎng)狀噴射表面，完成鐘罩內(nèi)部表面的水力掃射，用專用清洗劑等為主要清洗液，用純水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗，用高純水沖洗，完成清洗過程。其后用經(jīng)過三級凈化(10萬級)的純凈空氣，梯級加熱，保證烘干完的鐘罩不再結露，可直接進入生產(chǎn)作業(yè)，采用全密閉式清洗烘干方式，基本消除了對現(xiàn)場及操作人員的污染。
系統(tǒng)采用PLC+觸摸屏柔性自動控制系統(tǒng)，實現(xiàn)對還原爐鐘罩的自動清洗和烘干同時具有半自動或手動功能。系統(tǒng)清洗流程：還原爐鐘罩到位→預清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高純水沖洗→凈化熱空氣干燥→常溫干燥→鐘罩吊走，一套系統(tǒng)實現(xiàn)多種型號還原爐鐘罩的清洗烘干。
多晶硅還原爐清洗設備是多晶硅生產(chǎn)中產(chǎn)出*終產(chǎn)品的核心設備，也是決定系統(tǒng)產(chǎn)品質(zhì)量、成本的關鍵環(huán)節(jié)。德高潔多晶硅還原爐鐘罩自動清洗系統(tǒng)采用環(huán)保工藝搭配清洗設備，結合自動化智能化的清洗方式，不僅能夠提高多晶硅還原爐鐘罩的清洗效率及安全性，更能夠為多晶硅還原爐鐘罩清洗時的質(zhì)量、環(huán)保等問題進行加持，目前系統(tǒng)已經(jīng)覆蓋90%的多晶硅生產(chǎn)企業(yè)，為多晶硅還原爐生產(chǎn)廠家提供更加環(huán)保、高效、安全的還原爐鐘罩自動清解決方案，為多晶硅生產(chǎn)行業(yè)的快速發(fā)展助力。
